1. Pureza química extremadamente alta
Fabricado con material PFA de alta-pureza con un mínimo de elementos extraíbles, lo que garantiza que no se contamine el medio filtrado y cumple con los requisitos de limpieza de grado semiconductor-.
2. Excelente resistencia a la corrosión
Resiste ácidos fuertes, álcalis, disolventes orgánicos y oxidantes, ideal para filtrar productos químicos agresivos como fotorresistentes y grabadores.
3. Rendimiento superior a altas-temperaturas
Funciona de manera estable en condiciones de alta-temperatura, adecuado para la filtración de productos químicos calientes en procesos de semiconductores.
4. Alta precisión de filtración
Elimina eficazmente partículas de nano-escala, partículas de gel e iones metálicos, lo que garantiza un alto rendimiento en la fabricación de microelectrónica.
5. Bajos niveles de extraíbles y baja adsorción
Material inerte con mínima adsorción de productos químicos sensibles, manteniendo la estabilidad del baño químico.
6. Buena resistencia mecánica
Estructura robusta con excelente resistencia a la presión, adecuada para sistemas de filtración de alta-presión.
7. Amplia compatibilidad química
Compatible con prácticamente todos los productos químicos, sin riesgo de hinchazón o degradación.
8. Larga vida útil
Resiste la limpieza química repetida y la esterilización a alta-temperatura, lo que reduce los costos operativos generales.
9. Cumple con los estándares internacionales
Cumple con los estándares de limpieza de la industria de semiconductores como SEMI F57.
